五月八号。
荷兰，费尔德霍芬。
ASML总部。
一栋灰色的方形建筑，门口竖了两块巨幅广告牌，蓝底白字。
“EUV：TheFutureofSemiconductorManufacturing”
发布会定在上午十点。九点半人就到齐了。
三百多人，坐满了报告厅。
路透、彭博、金融时报、华尔街日报、日经新闻、法兰克福汇报——全球科技口的记者来了一半。
摄像机架了两排，闪光灯试了又试。
范德贝尔穿了件深蓝西装，白衬衫，没打领带。
他站在后台，助手递过来一杯水，他喝了一口，放下。
“准备好了？”
助手点头。
十点整，灯暗了。
范德贝尔走上台。
身后是一块十二米宽的LED屏，屏上一行字。
“EUVAlphaDemoUnit—FirstLight”
掌声。
范德贝尔没废话。
“今天，我给各位看一样东西。”
屏幕切换，实时画面——隔壁的洁净室。
一台机器占了半间屋子，银白色外壳，管线密密麻麻。
范德贝尔拿起遥控器，按了一下。
洁净室里，工程师启动程序。
嗡的一声。
机器亮了。
屏幕上跳出一组数字。
光源功率：62瓦。
波长：13.5纳米。
曝光均匀性：99.2%。
报告厅安静了三秒。
然后掌声炸了。
范德贝尔站在台上，等掌声停了。
“62瓦。各位，我们原定的目标是50瓦，今天的实测数据超出了百分之二十四。”
台下记者开始举手。
范德贝尔摆了摆手。
“问题等会儿再说，先看完。”
屏幕上切出第二组数据。
分辨率测试：45纳米线宽，清晰，没有畸变。
第三组，套刻精度：3.2纳米。
范德贝尔指着屏幕。
“这意味着，EUV光刻技术从实验室走向了工程验证阶段。我们距离量产只差最后一步。”
掌声又起来了。
发布会结束，记者围上去。
范德贝尔回答了十二个问题。最后一个，金融时报的记者问。
“首批量产设备的客户名单，能透露吗？”
范德贝尔笑了一下。
“
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