“刻蚀的精度和速度，至少能提升百分之三十。”
李昂放下笔，转过身。
会议室里，一片死寂。
钟元年身边，那个一直安静站着的年轻秘书，此刻张大了嘴巴，满脸的不可思议。
而不知何时，听到动静悄悄站在门口的钱总工和几位核心专家，更是感觉自己的头皮都在发麻。
因为李昂画出的那个结构图，那个改进方案……
恰好解决了钟元年团队在二十年前，一个悬而未决的技术难题！
那个难题，耗费了他们整整三年的心血，最后只能无奈放弃！
钟元年的呼吸，变得有些急促。
他撑着桌子，缓缓站了起来，一步一步走到白板前。
他伸出干枯的手，指尖颤抖地抚过那几条看似简单的曲线。
那不是图纸。
那是一个困扰了他半生的心魔！
他猛地回头，死死地盯着李昂。
“这个方案，你是怎么想到的？”
李昂的回答，平静得近乎冷酷。
“我没想，它本该就是这样。”
这句话，像一把重锤，狠狠砸在钟元年的心上。
他本该就是这样……
是啊，他们当年为什么就没能再往前多走一步？
钟元年没有再问下去。
他知道，再问，就是自取其辱了。
他回到了自己的座位上，沉默了许久。
整个会议室里的空气，都仿佛凝固了。
当钟元年再次抬起头时，他看着李昂的眼神，已经彻底变了。
如果说之前是审视和考量。
那么现在，就是纯粹的，面对未知领域的敬畏。
“光刻机呢？”
他沙哑地问出了最后一个，也是最核心的问题。
所有人的心，都提到了嗓子眼。
李昂没有直接回答。
他回到桌前，从那堆资料里，抽出了一份最厚的文件，翻开。
“我们不碰EUV。”
他开宗明义。
“那是一条用专利和时间堆砌起来的死路，我们现在闯不进去。”
他的手指，点在了文件的一行标题上。
“我们的路，在DUV上。”
“通过改进光源，将波长从193纳米压缩到更短。”
“通过升级双工件台，将运动精度和同步误差控制在纳米级别。”
“再结合我之前说的，浸没式光刻的液体折射率补偿方案。”
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